Laboratorio que se ubica en salas blancas para facilitar los procesos de micro-nanofabricación, que requieren controlar la contaminación por partículas en aire y que se mantengan en niveles bajos para poder trabajar de manera sistemática y concluyente.
Asimismo, la manipulación de nanomateriales también requiere la utilización de un recinto cerrado y controlado.
Ubicación
Descripción
El equipamiento disponible en el laboratorio es:
- Spin-spray coater. Para procesos de deposición con control del espesor de la capa depositada.
- Equipo de litografía maskaligner EVG 620 Para definición de estructuras de tamaño micro y nanométrico (de hasta unos 100nm). Técnicas: Fotolitografía, UV Nil y micro contact printing.
- Molino horizontal de bolas Dispermat SL12-C VMA-Getzmann con sistema de molienda de óxido de zirconio y recipiente doble pared de inoxidable de 1L. Se pueden lograr dispersiones de nanopartículas inferiores a 1 micra.
- Plasma etcher Plasmalab 80plus (Oxford Instruments): equipo de ataque superficial por plasma reactivo (rie) para el ataque de óxidos metálicos, Ti, fotoresinas.
- Agua ultra pura accesible en varios puntos. El sistema de depuración de agua consta de 2 módulos Elix5 UV y Milli-Q-element.
- Vitrinas de aspiración de gases para manipulación de disolventes.
- Microscopio óptico Olympus BS51 con luz polarizada, contraste de interferencia diferencial DIC (Nomarski) y fluorescencia.
- Sistema de separación por tamaños basado en un canal Asymetric Field Flow Fractionation AF4 acoplado a un detector MALS (WYATT Technologies), que permite la caracterización de la distribución de tamaños de nanomateriales en una solución, diámetros de partícula y concentración.
Dirigido a
- Grupos de investigación y empresas para llevar a cabo I+D+i basados en la aplicación de micro y nanotecnologías y procesos de fabricación alojados en un ambiente limpio para lograr soluciones innovadoras.
